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多弧离子镀膜机

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基本参数
服务项目 浏览量1 发布时间2014-03-08
品牌艾特迈 所在地广东 佛山 起订≥1 台
供货总量未填 发货0天内发货 有效期至2025-03-09
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详细说明

利用真空状态下弧光放电原理的离子镀膜技术,是率先发展起来的真空镀膜方式,具有沉积速率高、结合牢固、设备运行稳定等优点,我们在传统多弧的基础上,对靶结构、磁铁、冷却等进行了严格的改进和设计,提高了离化率、细化颗粒,膜层和基材结合更加牢固、膜层更加致密,硬度耐磨性显著提高,厚度可以控制在0.5微米—5微米之间,是普通装饰镀和工具镀膜的首选机型。

根据市场的需求公司研制出辅助阳极、磁过滤、矩形平面靶、圆柱旋转电弧靶等衍生产品,沉积的膜层达到纳米量级,是制备高硬度、高结合力、高耐膜性a-tcDLC膜层的良好选择。

技术参数:

真空箱体:主要规格有800*1000mm1000*1200mm1200*1500mm1500*1600mm1800*1950mm,并可以根据客户具体要求设计非标产品。

夹具方式:采用公自转行星式齿轮结构,工件速度在1-15/分钟可调,挂具有6轴、8轴、10轴、12轴等各种规格,适合不同大小尺寸的装饰、工具镀膜。

控制气体方式:采用质量流量计控制,进气稳定,反应速度快,可以配加自动压强控制。

:采用整体制造技术,结构合理而简单,维护更换靶材方便,具有自动/手动引弧功能。

电源:配置直流脉冲电源(电压、占空比可调节),逆变电弧电源。

抽真空参数:从大气抽至5*10‾³Pa≤15min 极限真空度8*10‾4Pa 控制系统 可以选用手动控制;计算机控制,触摸屏面板控制。

抽气系统:采用国产品牌机械泵、罗茨泵、扩散泵,根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。

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