一、技术原理：
光氢离子净装置是利用高强度的宽频光子波发生管和特殊高分子材料制作的光催化媒介，产生离子、电子、低浓度氧离子、过氧化氢、羟自由基以及大量的负离子。
1. 利用O3（臭氧）的强氧化性
光氢离子催化氧化设备是利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。众所周知臭氧具有极强的氧化性，主要利用185nm紫外线持续和O2结合产生臭氧来分解有机废气。
2.“七种催化涂层技术”加强了-C波段紫外线照射数倍；增加了-C波段光段的反射，使-C波反射再次利用；次涂层材料属于惰性材质，在-C波段紫外线的照射下挥发催化剂进行废气再次催化。彻底去除废气中有毒、有害、有味气体。
3.臭氧在该光量子的作用下可产生大量的新生态氢、活性氧和羟基氧等活性基团，一部分恶臭物质也能与活性基团反应，最终转化为CO2和H2O等无害物质，从而达到彻底去除恶臭气体的目的。当控制反应条件，可以实现一般情况下难以实现或使速度很慢的化学反应变得十分快速，大大提高了反应器的作用效率。
