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溅射技术已渐成为溅射
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+多弧离子
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该机型在多弧离子
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机的基础上配置圆柱靶或平面
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具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点,同时也具备
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蒸发技术结合在同一
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里,既利用
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溅射阴极辉光放电将靶材
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