纯水设备

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电子行业纯水设备要求

随着电子和半导体工业的发展，人们对生产中所使用的超纯水的质量要求在不断地提高，超纯水的标准也在不断提高。目前超纯水的要求主要有:水的电阻率接近理论值，25℃下为18Mcm;对微粒、细菌等有害杂质的控制也是极其严格的，因为微粒会使半导体的外延层产生尖峰，光刻过程产生***，而细菌本身可视作微粒，且体内含有钠、钾、磷等多种微量金属元素，总有机碳(T 0 C)也会对形成氧化膜产生不良影响。

进水质量、运行流量和树脂粒度均匀性等主要因素对电子级超纯水精制混床离子交换树脂出水质量的影响。出水质量随着进水质量的提高而提高，运行流量控制在50一70B V/h时为佳，采用粒度更均匀的树脂出水质量和周期制水量更好。在一定的运行条下，电子级超纯水精制混床离子交换树脂完全能满足电子行业对出水水质的要求。

【奥凯纯水设备】目前用于制备超纯水的主要有反渗透((R 0)、电除盐(CEDE ,UF(超滤)、离子交换(LW、精制混床离子交换技术((PM IX)等。虽然UF,RO和ED工对水体中电解质和有机物的去除率较高，但要做到长时间的稳定运行较难，且很难去除水体中一些分子量较小的有机物和微量的杂质离子。上述几种方法独立运行出水都很难达到电子级超纯水的要求，因此需将几种有机的结合起来，进一步提高出水水质。制备超纯水使用OF十RO十伏的组合工艺已经十分成熟,UF十RO十ED升PM伏工艺也已经有了较多的应用在生产超纯水工艺中，离子交换技术起到了关键性的作用，随着UF,RO,ED工技术的进步和发展，在实际工程中稳定运行的时间越来越长，出水水质越来越好，但是离开离子交换技术制造出合格的超纯水仍然是十分困难的。OF十RO十ED升PM找组合工艺中精制混床是关键部分，精制混床的核心是精制混床树脂，可去除水中存在的微量杂质离子，同时对于去除水体中小分子有机物也可起到积极的作用。

纯水系统中反渗透膜技术

反渗透是纯水系统的核心部件，经预处理并达到反渗膜要求的原水经反渗膜过滤后就成了纯水，因此做好反渗膜的维护工作是保证纯水质量的关键。反渗透膜在工作过程中膜表而的盐浓度高于主体流体中的浓度，这种现象称为浓差极化，浓差极化的后果是使一些盐在膜表而上沉淀，堵塞反渗透膜产水通道，使膜的产水量下降，给水中的有机物不被连续冲掉或被定期冲洗掉时会在膜表而沉淀，特别是一些表而带电荷的反渗透膜，会吸附带电的有机物并将其粘滞在膜表而上，有机物在膜表而的沉积对膜造成的损害比盐在膜表而的沉淀还要严重，有时这种损害是不可逆转的。膜表而有机物及各种盐类的浓度都远远高于主体水流，这为细菌的繁殖提供了丰富的营养。大量的微生物菌群不但堵塞产水通道，而且由于反渗透膜本身也是有机物，会被微生物所分解，造成不可逆转的损伤。水中氧化性物质如余氯等再摸表富集，富集到一定程度后超出膜本身所能承受的浓度，反渗透膜就会被氧化分解。奥凯纯水设备。

医用纯水的水质标准

2010版药典标准

GMP标准

电阻率:,15MS2.CM

电导率:}O.S},S

氨蕊0.3N.,}/ml

硝酸盐蕊0.06N.,}/ml

重金属蕊0.5 N.,}/ml